[发明专利]一种具有高选择性气体通道的混合基质膜及制备方法有效
| 申请号： | 202010706964.3 | 申请日： | 2020-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN111744375B | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | 乔志华;贾雪梦;仲崇立;孙玉绣;黄宏亮;郭翔宇 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | B01D71/68 | 分类号： | B01D71/68;B01D67/00;B01D53/22 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 谢绪宁;薛赟 |
| 地址： | 300380 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： |
本申请公开一种具有高选择性气体通道的混合基质膜及制备方法，属膜分离技术领域。其制备过程即首先将聚二甲基硅氧烷和聚乙烯醇涂覆在聚砜的表面进行制备得到亲水的改性聚砜膜，然后采用低温固相合成法，利用金属盐和配体在所得亲水的改性聚砜膜的表面上原位合成金属复合物疏水填料粒子，得到疏水HMP/MPSf膜，最后将亲水聚合物聚乙烯胺涂覆在疏水HMP/MPSf膜的表面进行界面自组装后经干燥，得到具有高选择性气体通道的混合基质膜，其CO |
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| 搜索关键词： | 一种 具有 选择性 气体 通道 混合 基质 制备 方法 | ||
【主权项】：
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