[发明专利]自理论光谱库确定待测样品参数的方法及测量设备有效
| 申请号： | 202010671891.9 | 申请日： | 2020-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN111879236B | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 张晓雷;叶星辰;张厚道;施耀明 | 申请（专利权）人： | 上海精测半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/03;G01B11/06;G06F30/20 |
| 代理公司： | 苏州友佳知识产权代理事务所(普通合伙) 32351 | 代理人： | 储振 |
| 地址： | 201700 上海市青浦区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了基于光谱库匹配确定待测样品形貌参数及测量设备，该方法包括根据待测样品的结构模型构建理论光谱库，获取测量光谱，自理论光谱库中确定测量光谱的初始近似最佳匹配光谱及初始近似最佳匹配参数向量；获取每个待测参数的至少三个采样点，以及每个采样点对应的理论光谱与测量光谱的均方误差；对每个待测参数的至少三个采样点各自对应的理论光谱与测量光谱的均方误差相对于各个采样点对应的参数数值的分布曲线执行抛物线拟合，获取每个待测参数的全局最佳匹配数值。通过本发明，显著提高了测量光谱与理论光谱之间的匹配精度，克服了形貌参数间存在耦合时采用传统方法所存在的插值不精确的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 理论 光谱 确定 样品 参数 方法 测量 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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