[发明专利]孪生负载中频交流PECVD沉积DLC涂层的方法

摘要

本发明公开了一种孪生负载中频交流PECVD沉积DLC涂层的方法，包括真空腔内布置第一组工件和第二组工件，第一组工件中所有工件电连接，第二组工件中所有工件电连接；所述第一组工件和所述第二组工件的相对位置关系应满足条件：通过对第一组工件进行旋转或平移，可使第一组工件和第二组工件有规律地重合；以中频交流电源为等离子体激发源，所述中频交流电源的两极分别连接第一组工件和第二组工件；对真空腔抽真空并通入源气体，开启中频交流电源，采用PECVD在工件上沉积DLC涂层。本发明可避免DLC涂层沉积过程中的放电终止和阳极消失，从而可进一步消除由放电终止和阳极消失导致的工艺波动和产品品质不良。