[发明专利]一种用于成像系统的定标体与非均匀性校正方法在审
| 申请号： | 202010638493.7 | 申请日： | 2020-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN111610577A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 侯丽伟;谢巍;袁毅;潘鸣 | 申请（专利权）人： | 上海亨临光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01V13/00 | 分类号： | G01V13/00 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 杜丹盛 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于成像系统的定标体，其置于成像系统内，用于提供均匀的辐射源，方便后续进行非均匀性校正，且其结构简单、方便布置。其包括吸波材料层、金属板、加热片、保温层和温控模块，所述吸波材料层覆盖于所述金属板的一表面，所述金属板的另一表面覆盖有所述加热片，所述加热片的远离所述金属板的冷面覆盖有保温层，所述加热片通过线路连接温控模块。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 成像 系统 定标 均匀 校正 方法 | ||
【主权项】：
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