[发明专利]一种用于成像系统的定标体与非均匀性校正方法

权利要求书

1.一种用于成像系统的定标体，其特征在于：其包括吸波材料层、金属板、加热片、保温层和温控模块，所述吸波材料层覆盖于所述金属板的一表面，所述金属板的另一表面覆盖有所述加热片，所述加热片的远离所述金属板的冷面覆盖有保温层，所述加热片通过线路连接温控模块。

2.如权利要求1所述的一种用于成像系统的定标体，其特征在于：所述吸波材料层具体为平板型吸波材料层或喷涂型吸波材料层。

3.如权利要求1所述的一种用于成像系统的定标体，其特征在于：所述吸波材料层的材质具体为泡棉型吸波材料、橡胶型吸波材料、导电聚合物。

4.如权利要求2所述的一种用于成像系统的定标体，其特征在于：所述吸波材料层具体为平板型吸波材料层时，所述平板层吸波材料层通过耐高温胶层和所述金属板粘结。

5.如权利要求2所述的一种用于成像系统的定标体，其特征在于：所述吸波材料层具体为喷涂型吸波材料层时，所述金属板的外表面直接喷涂吸波材料、形成喷涂型吸波材料层。

6.如权利要求1所述的一种用于成像系统的定标体，其特征在于：所述金属板具体为导电性良好的金属，所述金属板的未覆盖吸波材料层的表面粘贴有所述加热片，所述加热片的加热表面和所述金属板粘贴连接。

7.如权利要求1所述的一种用于成像系统的定标体，其特征在于：所述金属板上设置有温度触点，所述温度触点通过线连接至所述温控模块，所述温控模块的电流输出端连接至所述加热片的输入端。

8.定标体进行毫米波/太赫兹成像系统非均匀性校正的方法，其特征在于：将如权利要求1-7中任一权利要求所述的定标体放置于成像系统视场范围内，定标体的大小以覆盖成像系统所有探测器所对应的视场为准，成像系统进行成像时，以图像中定标体区域计算各探测器输出信号，以此做为各探测器输出的直流偏置，在此后的成像过程中，去除此直流偏置。

9.定标体进行毫米波/太赫兹成像系统非均匀性校正的方法，其特征在于：在将如权利要求1-7中任一权利要求所述的定标体上增加一个电动机构，并将定标体安装于成像系统探测器的前部，定标体的大小以覆盖探测器为准，当需要进行非均匀性校正时，启动电动机构，将定标体遮挡于探测器前，进行信号采集，计算此时探测器的直流偏置，再次启动电动机构，将定标体撤离探测器的前部区域，使成像系统正常成像，正常成像的数据去除前述直流偏置，即为非均匀性校正结果。