[发明专利]黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置有效
| 申请号： | 202010637458.3 | 申请日： | 2020-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN113885246B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 陈强;方业周;夏高飞;白夏红 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开一种黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。该黑矩阵结构包括：交叉的多个黑矩阵条，该黑矩阵条的宽度的范围为2微米～2.5微米，该多个黑矩阵条中相邻的两个黑矩阵条之间的距离的范围为4微米～5微米。本申请提供的黑矩阵结构中黑矩阵条的宽度较小，能够适用于分辨率要求较高的显示装置。 | ||
| 搜索关键词： | 矩阵 结构 及其 制造 方法 显示 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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