[发明专利]平板式PECVD设备的微波天线组件及平板式PECVD设备在审
申请号: | 202010565829.1 | 申请日: | 2020-06-19 |
公开(公告)号: | CN111485228A | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 张威;杨彬;唐电;彭宜昌;陈特超 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/513;C23C16/517 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 徐好 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种平板式PECVD设备的微波天线组件,包括微波天线及微波隔离石英管,所述微波天线设于平板式PECVD设备的真空腔室的外侧,所述微波隔离石英管设于所述真空腔室内,微波天线组件还包括石英管旋转驱动件,所述石英管旋转驱动件与所述微波隔离石英管相连。本发明还公开了一种平板式PECVD设备,包括真空腔室,所述真空腔室内设有工件载板及载板输送部件,还包括前述的平板式PECVD设备的微波天线组件。本发明具备有利于减缓薄膜的附着速率,延长石英管更换周期,提高生产效率等优点。 | ||
搜索关键词: | 平板 pecvd 设备 微波 天线 组件 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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