[发明专利]耐等离子体腐蚀零部件和反应装置及复合涂层形成方法在审
| 申请号： | 202010548392.0 | 申请日： | 2020-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN113808898A | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 段蛟 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C14/58;H01F13/00 |
| 代理公司： | 深圳中创智财知识产权代理有限公司 44553 | 代理人： | 文言;田宇 |
| 地址： | 200120 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体加工技术领域，具体公开了一种耐等离子体腐蚀零部件，零部件本体表面具有复合涂层，复合涂层包括磁性涂层和耐等离子体腐蚀涂层。本发明提供的零部件和反应装置，其表面具有磁性涂层和耐等离子体腐蚀涂层形成的复合涂层，通过磁性涂层的磁场作用改变等离子腔体内的电子、离子的运动方向，降低其对部件表面的法相轰击作用，避免耐等离子体腐蚀涂层产生微颗粒污染，并通过耐等离子体腐蚀涂层对部件进行防护，解决了目前涂层在先进制程中逐渐表现出失效的微颗粒污染问题。进一步地，还公开了一种制备具有该复合涂层的零部件的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 腐蚀 零部件 反应 装置 复合 涂层 形成 方法 | ||
【主权项】：
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