[发明专利]溅射镀膜设备及其电极装置和镀膜方法在审
| 申请号： | 202010516230.9 | 申请日： | 2020-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN113774342A | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 宗坚 | 申请（专利权）人： | 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 用于一溅射镀膜设备的电极装置，其中所述溅射镀膜设备适用于在基材表面镀膜，其中所述溅射镀膜设备包括一用于容置基材与靶材的反应腔体，其中所述电极装置适于安装于该反应腔体，其中所述电极装置包括：至少一射频电源，具有预设的频率；至少一射频驱动电极，其连接于所述射频电源的输出端，其中该靶材位于靠近所述射频驱动电极的位置，其中该基材面向该靶材且相距一定的距离，并形成一溅射空间；以及至少一供磁元件，其中所述供磁元件被设置于在临近该靶材的区域产生至少部分平行于该靶材表面的磁场的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 镀膜 设备 及其 电极 装置 方法 | ||
【主权项】：
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