[发明专利]在下电极结构上包括支撑图案的半导体器件在审

专利信息
申请号: 202010488922.7 申请日: 2020-06-02
公开(公告)号: CN112447719A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 李炫锡;姜埈求;赵基熙;安相赫 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 田野;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了半导体器件。半导体器件包括下电极结构的第一部分,下电极结构的第一部分位于基底上。半导体器件包括第一支撑图案,第一支撑图案与下电极结构的第一部分的侧壁的第一部分接触。半导体器件包括下电极结构的第二部分,下电极结构的第二部分位于下电极结构的第一部分的侧壁的第二部分上。半导体器件包括上电极,上电极位于下电极结构的第二部分上和第一支撑图案上。此外,半导体器件包括介电层,介电层位于上电极与下电极结构的第二部分之间。
搜索关键词: 在下 电极 结构 包括 支撑 图案 半导体器件
【主权项】:
暂无信息
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