[发明专利]一种缺陷检测装置及其方法在审
| 申请号： | 202010485286.2 | 申请日： | 2020-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN111610198A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 伊凯 | 申请（专利权）人： | 上海御微半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01N21/956;G01N21/88 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中国*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了缺陷检测装置及其方法，可通过光源出射检测光束，入射至第一光束处理单元，经第一光束处理单元处理为偏振检测光束，并入射至待测物，经待测物透射之后，形成第一待成像光束，并入射至第二光束处理单元，经第二光束处理单元处理为第二待成像光束，经过图像采集单元采集第二待成像光束之后形成待测物的实测图像，控制单元根据实测图像获取待测物的分布信息；并根据待测物的分布信息，以及根据有限元方法仿真获取的标准物的分布信息，识别待测物的缺陷，由此，可获取待测物的偏振应力分布、相位延迟分布或快轴方位角分布，进而有利于更直观识别待测物的内部缺陷，以及更全面的对待测物的内部缺陷进行检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缺陷 检测 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
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