[发明专利]对位标记的方法以及掩膜板的制作方法在审
| 申请号： | 202010462558.7 | 申请日： | 2020-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN111471959A | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 刘志乔 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12;H01L51/56 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对位标记的方法以及掩膜板的制作方法，其中所述对位标记的方法包括：1)获取像素位置偏差量；2)获取补偿量；3)进行偏移补偿；本发明所述对位标记制作方法能完成对所述掩膜板的像素位置偏差的补偿；本发明所述掩膜板的制作方法，通过采用本发明所述对位标记的方法制作在掩膜板的出产过程中完成对像素位置偏差的补偿，进而能省略掉蒸镀工艺过程中的offset补偿步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 对位 标记 方法 以及 掩膜板 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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