[发明专利]一种菲涅尔波带片的设计方法、制作方法和设计装置有效
申请号: | 202010374021.5 | 申请日: | 2020-05-06 |
公开(公告)号: | CN113625379B | 公开(公告)日: | 2023-09-26 |
发明(设计)人: | 高雅增;卢维尔;文庆涛;夏洋;李楠;赵丽莉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18;G02B27/00 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 房德权 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及光学器件技术领域,具体涉及一种菲涅尔波带片的设计方法、制作方法和设计装置。该方法包括:对菲涅尔波带片进行结构建模,获得菲涅尔波带片模型;计算菲涅尔波带片模型在空间内的第一光强分布;确定焦点中心位置;获得菲涅尔波带片模型的衍射效率;判断菲涅尔波带片模型的衍射效率是否满足设计要求;若否,则更新设定结构参数,并重复以上步骤;若是,则将设定结构参数作为优化后的设定结构参数。本发明创新地使用时域有限差分法来搭建真实的菲涅尔波带片模型,模拟出真实的菲涅尔波带片的工作环境,从而仿真出菲涅尔波带片的缺陷对其衍射现象的影响,通过反复的参数调整更新,进而获得了符合设计要求的菲涅耳波带片。 | ||
搜索关键词: | 一种 菲涅尔 波带片 设计 方法 制作方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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