[发明专利]一种单帧结构光场三维成像方法和系统有效

专利信息
申请号: 202010361796.9 申请日: 2020-04-30
公开(公告)号: CN111583323B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 刘晓利;蔡泽伟;彭翔;汤其剑 申请(专利权)人: 深圳大学
主分类号: G06T7/521 分类号: G06T7/521
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 武志峰
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种单帧结构光场三维成像方法和系统,其中,方法包括:投影装置投射条纹图案至被测物体上;光场成像装置记录经被测物体表面反射的结构光场;获取所述结构光场的局部强度差;对所述结构光场进行希尔伯特变换,获取希尔伯特变换后的结构光场的局部强度差;对两种局部强度差进行求和,并根据求和结果计算角度坐标范围内的角度方差,然后将所述角度方差作为深度线索进行光场深度估计;将估计的光场深度映射到三维坐标,以重建被测物体的三维模型,实现单帧结构光场三维成像。本发明无需提取结构光场的相位编码信息,即可实现高效、鲁棒的单帧结构光场三维成像。
搜索关键词: 一种 结构 三维 成像 方法 系统
【主权项】:
暂无信息
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