[发明专利]蚀刻液再生装置及蚀刻液再生方法有效
| 申请号： | 202010355366.6 | 申请日： | 2020-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN111394730B | 公开（公告）日： | 2022-06-07 |
| 发明（设计）人： | 何毅烽 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/46 | 分类号： | C23F1/46;C23F1/08 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 张晓薇 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提出了一种蚀刻液再生装置及蚀刻液再生方法。该蚀刻液再生装置包括：第一存储容器、第二存储容器、第三存储容器、第四存储容器、及位于第一存储容器和第四存储容器之间的再生容器其中，第一存储容器用于存储蚀刻废液，第二存储容器用于存储解吸液，第三存储容器用于存储解吸废液，第四存储容器用于存储再生的蚀刻液，再生容器用于蚀刻废液的再生。第一存储容器、第二存储容器、第三存储容器、第四存储容器通过管道与再生容器选择性相连通。本申请通过再生容器的设置，吸附蚀刻废液中的铜离子，实现了蚀刻液的再生，提高了蚀刻液的使用效率，减少了蚀刻液再生过程中有机溶剂的使用，减轻了对环境造成的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 再生 装置 方法 | ||
【主权项】：
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