[发明专利]一种用于红外焦平面器件的铁电单晶薄膜制备方法有效

专利信息
申请号: 202010324650.7 申请日: 2020-04-23
公开(公告)号: CN111584644B 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 王旭东;林铁;陈艳;王建禄;孟祥建;沈宏;葛军 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/18;H01L31/09;H01L27/144
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种用于红外焦平面器件的铁电单晶薄膜制备方法。其方法是将硅基衬底上的钽酸锂(LiTaO3)单晶薄膜剥离下来转移到特定的衬底上,保留单晶体材料的热释电性能,关键技术包括腐蚀硅基衬底的工艺条件、自支撑薄膜转移、电极制备与性能测试。首先,利用把硅基钽酸锂薄膜放置于腐蚀液中,在一定的温度下反应一段时间,然后转移到酒精中进行二次转移操作,使其在特定衬底上形成自支撑薄膜。然后,利用电子束蒸发制备上下电极,用自制的热释电系数测试系统测量单晶薄膜的热释电系数。该技术可以获得大面积、均匀的自支撑钽酸锂单晶薄膜,可用于制备高灵敏的非制冷红外焦平面器件。
搜索关键词: 一种 用于 红外 平面 器件 铁电单晶 薄膜 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所,未经中国科学院上海技术物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010324650.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top