[发明专利]同时剥离和乙烯基化二维片层材料的表面活性剂及制备与应用有效

专利信息
申请号: 202010216270.1 申请日: 2020-03-24
公开(公告)号: CN111393641B 公开(公告)日: 2021-10-12
发明(设计)人: 郑静;王义;曹振兴;马长书;黄光速;吴锦荣;邱翠波;杜安吉;吴睿 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: C08G73/04 分类号: C08G73/04;C08F292/00;C08F220/56;C08F220/06;C08F220/54;C01G39/06;C01B21/064;C01B32/19;C01B32/194;B82Y40/00
代理公司: 成都科海专利事务有限责任公司 51202 代理人: 吕建平
地址: 610065 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种同时剥离和乙烯基化二维片层材料的表面活性剂及其制备方法与应用,以及同时剥离和乙烯基化二维片层材料的应用。本发明的表面活性剂由聚乙烯亚胺和烯丙基缩水甘油醚反应制得,其末端带有乙烯基,醚链具有疏水性,水溶液显正电。在超声条件下,通过静电作用和疏水作用实现二维片层材料的剥离和功能化,形成表面带有大量乙烯基、内部存在物理吸附作用的二维片层材料。该乙烯基化的二维片层材料可作为一种合成聚合物的交联剂使用,形成化学交联和物理交联并存的界面,有望制备出具有高机械性能、功能型的二维纳米片复合材料。
搜索关键词: 同时 剥离 乙烯基 二维 材料 表面活性剂 制备 应用
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