[发明专利]一种掩膜版涂胶机的清洁装置及其清洁方法

摘要

本发明公开了一种掩膜版涂胶机的清洁装置及其清洁方法，解决了现有的掩膜版在旋涂光刻胶时，光刻胶会甩到涂胶机腔体转盘及转盘盖板上，光刻胶固化结块会影响掩膜版的品质，且操作人员在用化学药液去除时容易吸入身体而对健康造成危害的问题。本发明包括主体结构，所述主体结构包括上横杆和下横杆，所述上横杆和下横杆之间设置有支撑杆，所述下横杆与涂胶机转盘可拆卸连接，所述上横杆的上面设置有清洁组件。本发明具有能替代人工作业，避免化学品危害，而且可以提高作生产良率及作业效率等优点。