[发明专利]一种掩膜版涂胶机的清洁装置及其清洁方法在审
| 申请号: | 202010208419.1 | 申请日: | 2020-03-23 |
| 公开(公告)号: | CN111273516A | 公开(公告)日: | 2020-06-12 |
| 发明(设计)人: | 林伟;林超 | 申请(专利权)人: | 成都路维光电有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;B08B1/00;B08B1/04;B08B3/08;B08B13/00 |
| 代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 张严芳 |
| 地址: | 610000 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 掩膜版 涂胶 清洁 装置 及其 方法 | ||
1.一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,包括主体结构(1),所述主体结构(1)包括上横杆(7)和下横杆(3),所述上横杆(7)和下横杆(3)之间设置有支撑杆(5),所述下横杆(3)与涂胶机转盘(10)可拆卸连接,所述上横杆(7)的上面设置有清洁组件。
2.根据权利要求1所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述下横杆(3)上设置有通孔,所述通孔与所述涂胶机转盘(10)的Pin孔(11)采用螺栓连接。
3.根据权利要求2所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述通孔为螺纹孔(4)。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述清洁组件与所述上横杆(7)可拆卸连接。
5.根据权利要求1-3任一项所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述清洁组件包括卡条(8)和毛刷(2),所述毛刷(2)设置在卡条(8)上,所述上横杆(7)上设置有滑槽(9),所述卡条(8)滑入所述滑槽(9)形成可拆卸连接。
6.根据权利要求1-3任一项所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述支撑杆(5)包括相互平行的支撑杆一和支撑杆二,所述上横杆(7)和下横杆(3)之间设置有横梁(6),所述横梁(6)的两端分别与支撑杆一和支撑杆二连接,所述横梁(6)上设置有开孔。
7.根据权利要求6所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述横梁(6)上设置有限位件(15),清洁时,转盘盖板(12)的下边沿与所述限位件(15)接触,阻止所述转盘盖板(12)进一步下降,所述限位件(15)与所述毛刷(2)顶部的竖直距离H1大于所述转盘盖板(12)的边沿高度H2,所述毛刷(2)的竖直高度为h,其中H1-H2≤h。
8.根据权利要求1-3或7任一项所述的一种掩膜版涂胶机的清洁装置,其特征在于,所述支撑杆(5)上设置有开孔二。
9.一种掩膜版涂胶机的清洁方法,其特征在于,采用如权利要求1-8任一项所述的清洁装置,包括如下步骤:
步骤1:将清洁组件安装在所述上横杆(7)上;
步骤2:通过Pin孔(11)的位置用螺母将主体结构(1)固定在涂胶机转盘(10)上;
步骤3:调节转盘盖板(12)下降与毛刷(2)相接触;
步骤4:向转盘盖板(12)喷化学药液;
步骤5:开启涂胶机转盘(10)转动,带动主体结构(1)和毛刷(2)转动,对转盘盖板(12)的胶进行清理。
10.根据权利要求9所述的一种掩膜版涂胶机的清洁方法,其特征在于,所述步骤3中调节转盘盖板(12)下降的位置时,具体方法是:调节转盘盖板(12)下降直至转盘盖板(12)的下边沿与所述限位件(15)接触,使得转盘盖板(12)对所述毛刷(2)存在一定程度的挤压又不至于使转盘盖板(12)与所述卡条(8)接触而对转盘盖板(12)造成划伤。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备





