[发明专利]一种电介质薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202010199119.1 | 申请日： | 2020-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111341558A | 公开（公告）日： | 2020-06-26 |
| 发明（设计）人： | 党智敏;郑明胜 | 申请（专利权）人： | 清华大学;国网北京市电力公司 |
| 主分类号： | H01G4/14 | 分类号： | H01G4/14;H01G4/33 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 刘凯强;张奎燕 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种电介质薄膜及其制备方法和应用。所述电介质薄膜采用聚芳硫醚砜作为原料，通过熔融的方法制备成5～30微米的薄膜，该薄膜具有显著的耐高温特性，且具有介电常数高、性能稳定、加工性能良好的特点，在耐高温薄膜电容器等领域具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电介质 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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