[发明专利]色阻层结构及其制造方法在审
| 申请号： | 202010190097.2 | 申请日： | 2020-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN111258112A | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 俞云 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 张晓薇 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种色阻层结构及其制造方法，所述色阻层结构包含：一第一色阻；以及一第二色阻，所述第一色阻设置于所述第二色阻之上。所述第一色阻包含一凸部以及一基底部，所述凸部设置于所述基底部之上，且凸部具有一第一宽度小于所述基底部的一第二宽度。 | ||
| 搜索关键词： | 色阻层 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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