[发明专利]反应器歧管

摘要

本文公开了与半导体处理装置相关的系统和方法，所述半导体处理装置包括歧管，所述歧管包括构造成将气体递送到反应腔室的开孔，所述歧管包括第一块，所述第一块安装到第二块，第一安装块和第二安装块协作以至少部分地限定开孔。供应通道提供气体源与开孔之间的流体连通，且所述供应通道至少部分地设置于第二块中。金属密封件围绕开孔设置在所述第一块与所述第二块之间的界面处。有利地，金属密封件改善所述第一块与所述第二块之间的界面之间的密封。