[发明专利]一种基于聚焦离子束表征陶瓷涂层材料三维显微结构的方法有效

专利信息
申请号: 202010175765.4 申请日: 2020-03-13
公开(公告)号: CN113390914B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 宋雪梅;曾毅;吴伟;张积梅;王墉哲;姜彩芬;刘紫微;林初城;郑维 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: G01N23/2251 分类号: G01N23/2251;G01B15/00;B05D1/00
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 曹芳玲;郑优丽
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种基于聚焦离子束表征陶瓷涂层材料三维显微结构的方法,包括将陶瓷涂层材料加工成长条状样品;在长条状样品的目标区域沉积保护层;使用聚焦离子束将目标区域的周边剔除;在目标区域周围设置切片定位标记和拍照定位标记;设定聚焦离子束切片条件、消除荷电预处理条件和EBSD显微结构采集条件,消除荷电预处理为Ga离子束注入;利用聚焦离子束进行连续切片,在每次切片后对每个加工截面注入Ga离子束并收集EBSD图像;通过三维重构软件对一系列的EBSD图像进行三维重建,得到陶瓷涂层材料的三维显微结构。
搜索关键词: 一种 基于 聚焦 离子束 表征 陶瓷 涂层 材料 三维 显微结构 方法
【主权项】:
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