[发明专利]浓度控制装置、原料消耗量推定方法以及程序存储介质在审
申请号: | 202010150050.3 | 申请日: | 2020-03-06 |
公开(公告)号: | CN111690909A | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 志水彻;南雅和 | 申请(专利权)人: | 株式会社堀场STEC |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/52 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 杨敏;金玉兰 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于提供在不增设新的传感器等的情况下,准确地推定汽化罐内的原料的消耗量,且能够进行与原料的剩余量对应的高精度的浓度控制的浓度控制装置,其在汽化器中对原料气体的浓度进行控制,汽化器至少具备:容纳液体或固体的原料的汽化罐、向汽化罐供给载气的载气供给通路、以及供由原料汽化而从汽化罐导出的原料气体流通的原料气体导出通路,浓度控制装置具备:浓度监测器,其设置于原料气体导出通路,输出与原料气体的浓度对应的输出信号;浓度计算部,其基于来自浓度监测器的输出信号,来计算原料气体的浓度;以及原料消耗量计算器,其基于计算浓度和载气的流量,来计算作为原料气体而导出到原料气体导出通路的原料的消耗量。 | ||
搜索关键词: | 浓度 控制 装置 原料 消耗量 推定 方法 以及 程序 存储 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的