[发明专利]排气管装置在审
申请号: | 202010145579.6 | 申请日: | 2020-03-05 |
公开(公告)号: | CN112442676A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 松叶博;大石晃宏;栗原一彰;福水裕之 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;H01J37/32 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 张鲁滨;吴鹏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及排气管装置。根据一个实施例的排气管装置包括:管体;电介质,所述电介质形成为环状并沿着所述管体的内壁设置;形成为环状的内部电极,所述内部电极沿着所述电介质的内壁设置而留出所述电介质的内壁表面的一部分,并且构造成露出所述电介质的内壁表面的所述部分而不设置在所述管体的中心侧;和等离子体产生回路,所述等离子体产生回路构造成使用所述内部电极在所述电介质的露出表面上产生等离子体,其中,所述排气管装置用作设置在成膜室与用于对所述成膜室的内部进行排气的真空泵之间的排气管的一部分。 | ||
搜索关键词: | 排气管 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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