[发明专利]一种基于声子晶体的MEMS热电器件制备方法在审

专利信息
申请号: 202010144775.1 申请日: 2020-03-04
公开(公告)号: CN113363375A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 王晓东;马哲;张明亮;魏江涛;杨亮亮;杨富华 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L35/34 分类号: H01L35/34;B81C1/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王中苇
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种基于声子晶体的MEMS热电器件制备方法,包括:S1,在SOI衬底的顶层硅上刻蚀出热电转换结构(100),热电转换结构(100)包括一连接部以及连接于连接部两端的两端部;S2,在步骤S1所得结构的上表面生长氮化硅膜(102);S3,刻蚀氮化硅膜(102)以形成支撑臂和支撑岛;S4,在支撑岛上沉积第一金属(103),并刻蚀第一金属(103)以形成金属图形;S5,在支撑臂上沉积第二金属(104),通过退火工艺使得第二金属(104)与顶层硅形成欧姆接触;S6,在热电转换结构(100)的连接部制备声子晶体;S7,在步骤S6所得结构的上表面和SOI衬底的下表面生长掩膜层;S8,刻蚀下表面至SOI衬底的埋氧层(101);S9,去除埋氧层(101);S10,去除上表面掩膜层。
搜索关键词: 一种 基于 晶体 mems 热电器件 制备 方法
【主权项】:
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