[发明专利]一种酸扩散抑制剂及其制备方法与光刻胶组合物在审
| 申请号： | 202010128257.0 | 申请日： | 2020-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN111221218A | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | 顾大公;齐国强;陈玲;马潇;毛智彪;许从应 | 申请（专利权）人： | 宁波南大光电材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;C08F220/34 |
| 代理公司： | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人： | 左光明 |
| 地址： | 315800 浙江省宁波市北仑区*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明属于高分子聚合物技术领域，提供了一种酸扩散抑制剂，其是以(甲基)丙烯酸酯为结构单元，在其中引入含醚键的碱性基团形成的聚合物树脂，解决了光刻胶中高分子化合物和酸抑制剂的互溶性不匹配，成膜能力差，出现光刻胶膜脆裂、剥落等的问题，可以控制非曝光区的光酸扩散；同时能更有效改善本身在光刻胶内的溶解性和分布，提高光刻胶分辨率和线宽粗糙度，改善光刻胶的成膜能力。本发明还提供所述酸扩散抑制剂的制备方法以及其光刻胶组合物。将本申请的酸扩散抑制剂应用于光刻胶组合物时，其具有分布固定、酸扩散抑制能力高并且与酸活性树脂性质匹配、成膜能力好的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扩散 抑制剂 及其 制备 方法 光刻 组合 | ||
【主权项】：
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