[发明专利]离子注入机台的监控方法有效
| 申请号： | 202010116388.7 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111312572B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 范世炜;姚雷;张凌越;国子明 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01J37/317;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种离子注入机台的监控方法，所述离子注入机台的监控方法包括，提供一反应腔，所述反应腔内具有离子源；通过所述离子源形成离子束，所述离子束具有多个离子；对多个所述离子进行检测，以得到多个所述离子的原子质量和电流；通过多个所述离子的所述原子质量和所述电流确定所述离子束是否合格。即通过对所述离子束的多个所述离子进行检测，得到多个所述离子的原子质量和电流，由此，根据多个所述离子的所述原子质量和所述电流确定所述离子束是否合格，进而确定所述离子注入机的稳定性，进一步的，由于确定了所述离子束是否合格，从而可以避免异常的所述离子束对产品造成的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 机台 监控 方法 | ||
【主权项】：
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