[发明专利]一种刮痕双层反应釉的制备方法在审
| 申请号： | 202010114550.1 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN111377757A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | 潘俊云 | 申请（专利权）人： | 醴陵市和兴瓷业有限公司 |
| 主分类号： | C04B41/89 | 分类号： | C04B41/89 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 黄良宝 |
| 地址： | 412200 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种刮痕双层反应釉的制备方法，方法的步骤中含有：S1：坯体洗水，上好内釉，并烘干处理；S2：在经过步骤S1处理后的坯体上上底釉，晾2‑3分钟，然后上面釉；S3：待面釉收水干透，用刻刀在面釉上按照设计刮痕图案，用力均匀地刻出对应刮痕图案的纹路；S4：经过步骤S3处理后的坯体烧成得到成品；其中，面釉和底釉使用的釉浆的波美浓度控制在38～42波美度，比重控制在1.2～1.3，水分控制在58％～62％。本发明的釉面发色均匀，釉面效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刮痕 双层 反应 制备 方法 | ||
【主权项】：
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