[发明专利]一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法

摘要

本发明公开了一种超高真空进样与样品处理两用系统及处理方法，主要包括主腔体、样品存储与加热台、波纹管式直线导入器、观察窗、手阀、热阴极离子规、离子溅射源、旁抽角阀、洗气角阀、支撑架。主腔体具有多个超高真空紧密封法兰口，依次连接波纹管式直线导入器、观察窗、手阀、热阴极离子规、离子溅射源、真空抽气系统、洗气系统，在主腔体下方设有支撑架。该系统能够在保证达到超高真空标准的前提下，用一个腔体集成多样品进样和基片处理两个功能，其中基片处理主要采用惰性气体离子溅射轰击和退火的方法，得到洁净度高、性能优越的薄膜样品。