[发明专利]基于残差统计的跟踪雷达航迹质量评估方法、系统及介质有效

专利信息
申请号: 202010099525.0 申请日: 2020-02-18
公开(公告)号: CN111366900B 公开(公告)日: 2023-04-28
发明(设计)人: 张思霈;刘红明;郁文;王晓科;余科;赵智剑;罗晨;戴少怀 申请(专利权)人: 上海机电工程研究所
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 胡晶
地址: 201100 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种基于残差统计的跟踪雷达航迹质量评估方法、系统及介质,包括:步骤1:计算单采样周期目标跟踪回路中单一参量的归一化新息量;步骤2:根据归一化新息量迭代统计计算当前时刻的误差能量;步骤3:对误差能量进行处理,求得航迹质量值。本发明充分考虑了雷达残差与误差的相关关系,基于残差统计的雷达航迹质量评估算法明显提高了航迹质量的正确性,具有较强的军事应用价值。
搜索关键词: 基于 统计 跟踪 雷达 航迹 质量 评估 方法 系统 介质
【主权项】:
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