[发明专利]一种中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备在审
| 申请号： | 202010098590.1 | 申请日： | 2020-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN111302627A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 林桓毅;邓冲;林少森;周军民;姚先龙 | 申请（专利权）人： | 龙泉瓯江青瓷有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/14 | 分类号： | C03C8/14;C03C6/04;C04B41/86;C04B33/34;F27B17/00 |
| 代理公司： | 杭州橙知果专利代理事务所(特殊普通合伙) 33261 | 代理人： | 程志军 |
| 地址： | 323700 浙江省丽水*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种中温龙泉青釉的烧制工艺及设备，其氧化物化学组成按重量百分比计为：62～66％SiO2，14～16％Al2O3，0.3～0.8％MgO，11～17％CaO，3～5％K2O，0.2～0.5％Na2O，0～0.25％TiO2，0.03～0.1％MnO，0.1～0.15％Fe2O3，此中温龙泉青釉的烧制工艺及其烧制设备，区别于现有技术，在解决了大批量生产过程中，其青釉易出现色差的难题的同时，能够保证青釉烧制过程中的均匀稳定烧制，能够对各尺寸青瓷进行高效的旋转烧制防护，保证绝对稳定安全的均匀烧制，且同时能够对倾斜的青瓷进行有效的复位，进而保证高质量烧制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 龙泉 烧制 工艺 及其 设备 | ||
【主权项】：
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