[发明专利]半导体设备工艺腔室的清洁装置以及清洁方法在审
| 申请号： | 202010075279.5 | 申请日： | 2020-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN111229738A | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 盖克彬;倪帆 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B9/08;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种半导体设备工艺腔室的清洁装置以及清洁方法，该清洁装置包括：固定盘和套设在所述固定盘上的膨胀件，其中，所述固定盘上开设有通气孔，当所述固定盘放置在所述工艺腔室中的卡盘组件上时，所述通气孔与所述卡盘组件的气道连通；所述膨胀件的表面设置有粘合层，当通过所述气道及所述通气孔向所述膨胀件中充气时，所述膨胀件可膨胀至与所述工艺腔室内部表面的至少一部分接触，以通过所述粘合层粘除所述工艺腔室内部表面上的附着物，当通过所述气道及所述通气孔从所述膨胀件中抽气时，所述膨胀件可收缩至原状。通过本发明，缩短了维护半导体设备工艺腔室所耗时间。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体设备 工艺 清洁 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方华创微电子装备有限公司，未经北京北方华创微电子装备有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010075279.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
