[发明专利]针对透明介质表面刻蚀或浮雕图案进行高对比度成像的方法在审
| 申请号： | 202010066107.1 | 申请日： | 2020-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN111107257A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 伍俊龙;刘从军;姚康;马士青;冉兵;郭正华;陈先锋;母德江 | 申请（专利权）人： | 成都德图福思科技有限公司 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;H04N5/235 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610015 四川省成都市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供一种针对透明介质表面刻蚀或浮雕图案进行高对比度成像的方法，其特征在于，包括如下方法：S1：构造周期排列遮光板；S2：利用白色面光源和所述构造周期排列遮光板构造特种光源；S3：采用所述特种光源对成像目标进行照明；S4：调整相机的镜头，使其对焦于透明介质表面；S5：调整镜头光圈及相机曝光时间，将成像景深限制在所述透明介质刻蚀表面前后两厘米范围内，以降低背景对成像的干扰。该方法通过构造特种光源进行主动照明，以提高成像稳定性；通过调整光圈控制成像景深，提高成像对比度、降低背景干扰。 | ||
| 搜索关键词： | 针对 透明 介质 表面 刻蚀 浮雕 图案 进行 对比度 成像 方法 | ||
【主权项】：
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