[发明专利]针对透明介质表面刻蚀或浮雕图案进行高对比度成像的方法

权利要求书

1.一种针对透明介质表面刻蚀或浮雕图案进行高对比度成像的方法，其特征在于，包括如下方法：

S1：构造周期排列遮光板；

S2：利用白色面光源和所述构造周期排列遮光板构造特种光源；

S3：采用所述特种光源对成像目标进行照明；

S4：调整相机的镜头，使其对焦于透明介质表面；

S5：调整镜头光圈及相机曝光时间，将成像景深限制在所述透明介质刻蚀表面前后两厘米范围内，以降低背景对成像的干扰 。

2.根据权利要求1所述的针对透明介质表面刻蚀或浮雕图案进行高对比度成像的方法，其特征在于：所述周期排列遮光板置于面光源正前方，且与所述面光源相互平行 。

3.根据权利要求1所述的针对透明介质表面刻蚀或浮雕图案进行高对比度成像的方法，其特征在于：所述周期排列遮光板和待测样本均置于所述白色面光源和所述相机之间，且所述待测样本位于所述相机一侧，所述周期排列遮光板位于所述白色面光源一侧。

4.根据权利要求1所述的针对透明介质表面刻蚀或浮雕图案进行高对比度成像的方法，其特征在于：周期排列遮光板上设有相互平行的条形透光孔。