[发明专利]传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010059520.5 申请日: 2020-01-19
公开(公告)号: CN113138039B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 许镇宗;刘艳花;黄文彬 申请(专利权)人: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学
主分类号: G01L1/00 分类号: G01L1/00;G01L11/00
代理公司: 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 代理人: 唐静芳
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种传感器及其制备方法,可应用于穿戴设备。该传感器包括基底和形成在所述基底上的传感层,所述基底具有形成微纳图案的微沟槽,所述传感层形成在所述微沟槽内,所述传感层包括呈三明治结构的MXene层、CNT层及MXene层。该传感器的制备方法,包括:S1、提供基底,所述基底具有形成微纳图案的微沟槽;S2、制备传感层,在所述微沟槽内依次形成MXene层、CNT层及MXene层。通过在基底的微沟槽内形成MXenes‑CNT‑MXenes三明治结构的传感层,解决由于沟槽槽深较浅,Mxene溶液刮涂困难的难题,还增强了传感层的导电性能,提高了灵敏度;且传感器具有透明,可拉伸,压力感知范围大的特点。
搜索关键词: 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
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