[发明专利]等离子体处理装置和环部件的位置偏离测量方法在审
| 申请号： | 202010012842.4 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111446142A | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 尾形敦 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置和环部件的位置偏离测量方法。载置台具有载置治具的第一载置面和载置环部件的第二载置面。获取部获取表示第二载置面与多个治具各自的相对部的间隔大小的间隔信息。测量部在治具分别载置于第一载置面的状态下使环部件上升，在相对部与环部件的上表面接触的情况下，对周向的多个位置分别计算环部件的上升距离。厚度计算部基于间隔大小和环部件上升距离，对周向的多个位置分别计算径向的多个位置的环部件的厚度。位置偏离计算部基于环部件的厚度，对周向的多个位置分别确定环部件的特征位置，计算通过该特征位置的圆的中心位置与第一载置面的中心位置的偏离量。由此，能够适当地测量因消耗导致的环部件的位置偏离。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 部件 位置 偏离 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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