[发明专利]一种通过离子注入调节光学元件光学性能的方法在审
| 申请号： | 202010005326.9 | 申请日： | 2020-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN111180302A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 崔云;张晗宇;赵元安;易葵 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于光学元件领域，具体涉及一种离子注入调节光学元件光学性能的方法，步骤包括：通过计算模拟离子注入基底表面的深度与离子能量、入射角度的关系，模拟入射离子在基底中的分布，模拟离子种类和剂量对光谱调节范围和幅度的影响；根据所需调节光谱波段和幅度，依照模拟计算结果，确定离子注入种类、能量、注入角度、注入剂量；将基底置于离子注入机内，注入确定能量和剂量的离子。通过本发明方法在基底表面注入离子，调节光学元件的吸收、透射或反射，而不影响元件表面粗糙度、硬度、耐磨性，保证光学元件的环境适应性，应用于发光晶体、探测窗口或节能窗口等，应用前景广阔。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 离子 注入 调节 光学 元件 性能 方法 | ||
【主权项】：
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