[发明专利]薄膜电容器制造用镍箔及其制造方法在审
| 申请号： | 201980101536.3 | 申请日： | 2019-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN114586121A | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 宋基德;梁畅烈;尹相华 | 申请（专利权）人： | 日进材料股份有限公司 |
| 主分类号： | H01G4/33 | 分类号： | H01G4/33;H01G4/30;H01G4/008;H01G4/12 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 孙微 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电解镍箔，在该电解镍箔的至少一侧的平坦表面的表面粗糙度Ra为0.05μm以下，Rz为0.2μm以下，并且Rt为0.5μm以下，并且通过测量60°镜面反射角从而测定的光泽度为至少200GU。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 电容器 制造 用镍箔 及其 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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