[发明专利]荧光X射线分析装置有效
| 申请号： | 201980094805.8 | 申请日： | 2019-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN113692533B | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 片冈由行;森山孝男 | 申请（专利权）人： | 株式会社理学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223;G01B15/02;G01N23/2209 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 | 代理人： | 刘卓然 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的荧光X射线分析装置所具有的计数时间计算机构(13)以改变使其测定强度变化的测定射线的方式，反复进行下述的流程，即，通过规定的定量运算方法，采用一个标准样品的参考强度，求出每个定量值，并且求出仅使一条测定射线的测定强度仅以规定量而变化的场合的每个定量值，将每个定量值变化与规定量的比作为定量值变化与强度比而求出，反复进行该流程，采用像这样而针对全部的测定射线求出的定量值变化与强度比，根据相对每个定量值而指定的定量精度，计算每条测定射线的计数时间。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 射线 分析 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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