[发明专利]投影系统和包括所述投影系统的光刻设备在审
| 申请号： | 201980089202.9 | 申请日： | 2019-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN113632008A | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | M·E·C·马赛尔斯;R·J·M·德琼;J·P·斯特瑞弗德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
公开了一种用于光刻设备的投影系统，该投影系统包括：被配置为沿路径引导束的多个光学元件、以及被配置为接收指示多个光学元件中的第一光学元件的变形的输入信号的控制系统。多个光学元件可以被配置为将束定位到布置在物体支撑件上的物体上，并且图案可以通过布置在支撑结构上的图案形成装置被赋予束。控制系统被配置为：基于上述输入信号生成用于控制多个光学元件中的至少第二光学元件的位置的输出信号；和 |
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| 搜索关键词： | 投影 系统 包括 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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