[发明专利]投影系统和包括所述投影系统的光刻设备在审
| 申请号: | 201980089202.9 | 申请日: | 2019-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN113632008A | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
| 发明(设计)人: | M·E·C·马赛尔斯;R·J·M·德琼;J·P·斯特瑞弗德 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 投影 系统 包括 光刻 设备 | ||
1.一种用于光刻设备的投影系统,所述投影系统包括:
a.多个光学元件,被配置为沿路径引导束,
b.控制系统,被配置为
i.接收指示所述多个光学元件中的至少第一光学元件的变形的输入信号,以及
ii.基于所述输入信号,生成用于控制所述多个光学元件中的至少第二光学元件的位置的输出信号。
2.根据权利要求1所述的投影系统,其中所述控制系统被配置为基于所述输入信号,生成用于控制所述多个光学元件中除所述第一光学元件之外的多个的位置的一个或多个输出信号。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的投影系统,其中所述控制系统被配置为基于所述输入信号,生成用于控制所述多个光学元件中除所述第一光学元件之外的每个光学元件的位置的一个或多个输出信号。
4.根据前述权利要求中一项或多项所述的投影系统,其中所述多个光学元件被配置为将所述束定位到布置在物体支撑件上的物体上,并且其中所述控制系统被配置为基于所述输入信号,生成用于控制所述物体支撑件的位置的输出信号。
5.一种用于光刻设备的投影系统,包括:
a.多个光学元件,被配置为沿路径引导束,其中所述多个光学元件被配置为将所述束定位到布置在物体支撑件上的物体上,
b.控制系统,被配置为
i.接收指示所述多个光学元件中的至少第一光学元件的变形的输入信号,以及
ii.基于所述输入信号,生成用于控制所述物体支撑件的位置的输出信号。
6.根据前述权利要求中一项或多项所述的投影系统,其中所述束被配置为在所述多个光学元件接收所述束之前,具有由支撑结构支撑的图案形成装置赋予的图案,其中所述控制系统被配置基于所述输入信号,生成用于控制所述支撑结构的位置的输出信号。
7.一种用于光刻设备的投影系统,包括:
a.多个光学元件,被配置为沿路径引导束,其中所述束被配置为在所述多个光学元件接收所述束之前,具有由支撑结构支撑的图案形成装置赋予的图案,
b.控制系统,被配置为
i.接收指示所述多个光学元件中的至少第一光学元件的变形的输入信号,以及
ii.基于所述输入信号,生成用于控制所述支撑结构的位置的输出信号。
8.根据前述权利要求中一项或多项所述的投影系统,其中所述第一光学元件是被布置在所述束的所述路径中在所述多个光学元件的最后的光学元件。
9.根据前述权利要求中一项或多项所述的投影系统,还包括被配置为控制所述第一光学元件的位置的驱动系统,并且其中指示所述第一光学元件的所述变形的输入信号表示由所述驱动系统控制以被施加在所述第一光学元件上的力。
10.根据权利要求9所述的投影系统,其中所述驱动系统被配置为控制被施加在所述第一光学元件上的所述力以至少部分补偿所述第一光学元件的位置与期望位置之间的差异。
11.根据前述权利要求中一项或多项所述的投影系统,还包括
a.第一框架,所述多个光学元件布置到所述第一框架上,
b.第二框架,
c.测量系统,布置在所述第二框架上并且被配置为确定至少所述第一光学元件的位置。
12.根据前述权利要求中一项或多项所述的投影系统,其中所述控制系统被配置为接收指示所述多个光学元件中的每个光学元件的变形的一个或多个输入信号,并且其中控制系统被配置为基于所述输入信号确定所述输出信号。
13.根据权利要求12所述的投影系统,其中所述控制系统被配置为基于所述一个或多个输入信号,生成用于控制所述多个光学元件中的每个光学元件的位置的一个或多个输出信号。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980089202.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





