[发明专利]多层腔室结构及其制造方法有效
| 申请号： | 201980084953.1 | 申请日： | 2019-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN113196562B | 公开（公告）日： | 2023-09-26 |
| 发明（设计）人： | 宁录·罗斯普夏 | 申请（专利权）人： | 宁录·罗斯普夏 |
| 主分类号： | H01P1/208 | 分类号： | H01P1/208;H01P1/20 |
| 代理公司： | 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 | 代理人： | 翟羽 |
| 地址： | 以色列里*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 揭示了一种腔室装置，所述腔室装置包括数个平板，堆叠在彼此上以形成一多层结构。所述数个平板中的至少一些包括至少一开口或数个穿孔，所述开口或数个穿孔具有一或多层的导电材料，配置以与所述数个平板中的另一者的一或多层的导电材料建立电传导，从而在所述多层结构中形成数个导电图样，用于与被引入所述腔室装置中的电磁辐射互动。 | ||
| 搜索关键词： | 多层 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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