[发明专利]用于测量光刻设备的聚焦性能的方法、图案形成装置和设备、以及器件制造方法

摘要

披露了一种测量光刻设备的聚焦性能的方法。所述方法包括：使用所述光刻设备将至少一个聚焦量测图案印制到衬底上，所印制的聚焦量测图案至少包括特征的第一周期性阵列；和使用检查辐射来测量所印制的聚焦量测图案中的所述第一周期性阵列的衍射光谱的相反部分之间的不对称性。至少部分地基于所测量的所述不对称性来导出聚焦性能的测量结果。所述第一周期性阵列包括不具有特征的间隔区和具有至少一个第一特征和至少一个第二特征的图案区的重复布置，所述至少一个第一特征包括从主体突出的子特征；以及其中所述第一特征和第二特征足够接近以在测量步骤中被测量时被有效地检测为单个特征还披露了包括所述第一周期性阵列的图案形成装置。