[发明专利]防反射膜、光学元件、防反射膜的制造方法及微细凹凸结构的形成方法有效
| 申请号： | 201980061244.1 | 申请日： | 2019-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN112740081B | 公开（公告）日： | 2022-08-26 |
| 发明（设计）人： | 吉弘达矢;板井雄一郎 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;G02B1/115 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 高颖 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供一种能够容易制作且具有更良好的防反射性的防反射膜、具备防反射膜的光学元件、防反射膜的制造方法及微细凹凸结构的形成方法。重复进行多次如下工序：薄膜形成工序，在基材上的成膜面形成包含铝的薄膜；及温水处理工序，通过对薄膜实施温水处理来形成由以氧化铝的水合物为主成分的板状晶体构成的微细凹凸结构。由此，得到包括如下微细凹凸层的防反射膜，该微细凹凸层具有在从作为表面的凸部前端朝向基材侧的厚度方向上逐渐变化且在最靠基材侧的界面处成为最大值的折射率分布，表面的折射率为1.01以下，当将作为防反射对象的光的波长区域中的最长的波长设为λ |
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| 搜索关键词： | 反射 光学 元件 制造 方法 微细 凹凸 结构 形成 | ||
【主权项】：
暂无信息
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