[发明专利]防反射膜、光学元件、防反射膜的制造方法及微细凹凸结构的形成方法

权利要求书

1.一种防反射膜，其包括微细凹凸层，所述微细凹凸层配置在基材的一面且以氧化铝的水合物的板状晶体为主成分，其中，

所述微细凹凸层具有在从作为表面的凸部前端朝向所述基材侧的厚度方向上逐渐变化且在最靠所述基材侧的界面处成为最大值的折射率分布，所述表面的折射率为1.01以下，在将作为防反射对象的光的波长区域中的最长的波长设为λ_max时，从该表面至沿所述厚度方向100nm为止的第1渐变折射率区域中的最大的折射率梯度为0.4/λ_max以下。

2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，

在所述微细凹凸层中，从所述厚度方向上的所述100nm的位置至所述基材侧的所述界面为止的第2渐变折射率区域中的最大的折射率梯度为0.8/λ_max以下。

3.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，

作为所述防反射对象的光的波长区域为400nm～800nm。

4.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，

所述折射率分布中的所述最大值为1.5以上。

5.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，

所述微细凹凸层的厚度为550nm 以上。

6.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，

所述基材在λ_max下的折射率超过1.5。

7.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，

所述防反射膜在所述微细凹凸层与所述基材之间具备渐变折射率层，

所述渐变折射率层具有在从与所述微细凹凸层的界面朝向所述基材的厚度方向上折射率逐渐变化的折射率分布，与所述微细凹凸层的界面处的折射率和该界面处的所述微细凹凸层的折射率之差为0.01以下，与所述基材的界面处的折射率和所述基材的折射率之差为0.01以下。

8.根据权利要求7所述的防反射膜，其中，

在所述渐变折射率层中，所述厚度方向上的最大的折射率梯度为1.6/λ_max以下。

9.根据权利要求7所述的防反射膜，其中，

所述渐变折射率层以氧化硅、氮化硅、氮氧化硅及氧化铌中的任意一种以上为主成分。

10.根据权利要求1或2所述的防反射膜，其中，

所述防反射膜在所述微细凹凸层与所述基材之间具备折射率匹配层，所述折射率匹配层交替地具备具有相对高的折射率的高折射率层和具有相对低的折射率的低折射率层。

11.一种光学元件，其包括：基材；及权利要求1至10中任一项所述的防反射膜，该防反射膜配置在该基材的一面。

12.一种防反射膜的制造方法，其包括：

薄膜形成工序，在基材上的成膜面形成包含铝元素的薄膜；

温水处理工序，通过对该薄膜实施温水处理来形成由以氧化铝的水合物为主成分的板状晶体构成的微细凹凸结构；及

重复工序，将所述微细凹凸结构的表面作为所述成膜面而重复进行所述薄膜形成工序及所述温水处理工序。

13.一种微细凹凸结构的形成方法，其包括：

薄膜形成工序，在基材上的成膜面形成包含铝元素的薄膜；

温水处理工序，通过对所述薄膜实施温水处理来形成由以氧化铝的水合物为主成分的板状晶体构成的微细凹凸结构；及

重复工序，将所述微细凹凸结构的表面作为所述成膜面而重复进行所述薄膜形成工序及所述温水处理工序。