[发明专利]表面保护薄膜用基材、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜在审
| 申请号： | 201980059578.5 | 申请日： | 2019-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN112673292A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 清水享;中原步梦 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;B32B7/023;C09J7/22;C09J7/38 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供可良好地抑制光学检査时的漏光、着色及彩虹样不均的表面保护薄膜用基材。本发明的表面保护薄膜用基材的正面方向的相位差R0(550)与极角45°和方位角45°方向的相位差R45(550)满足下述的关系：R45(550)‑R0(550)≤13(nm)。一个实施方式中，表面保护薄膜用基材中，正面方向的相位差R0(550)为20nm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 保护 薄膜 基材 使用 光学薄膜 | ||
【主权项】：
暂无信息
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