[发明专利]表面保护薄膜用基材、使用该基材的表面保护薄膜、及带表面保护薄膜的光学薄膜

权利要求书

1.一种表面保护薄膜用基材，其正面方向的相位差R0(550)与极角45°和方位角45°方向的相位差R45(550)满足下述的关系：

R45(550)-R0(550)≤13(nm)。

2.根据权利要求1所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述正面方向的相位差R0(550)为20nm以下。

3.根据权利要求1或2所述的表面保护薄膜用基材，其总透光率为80％以上、雾度为1.0％以下。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述表面保护薄膜用基材包含选自聚碳酸酯、聚酯、环烯烃系树脂、丙烯酸系树脂及纤维素树脂中的至少1种树脂。

5.根据权利要求4所述的表面保护薄膜用基材，其中，所述表面保护薄膜用基材包含具有脂环式结构或具有显示负固有双折射的芳香族环结构的树脂。

6.一种表面保护薄膜，其包含权利要求1～5中任一项所述的表面保护薄膜用基材、和粘合剂层。

7.一种带表面保护薄膜的光学薄膜，其包含：光学薄膜、和以可剥离的方式贴合于该光学薄膜的权利要求6所述的表面保护薄膜。