[发明专利]具有减少的重力引起的误差的用于测量光掩模平坦度的系统和方法在审
申请号: | 201980057695.8 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN112639613A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | T·J·邓恩;J·W·弗兰克维奇;R·D·格雷伊达;C·A·李;M·R·米勒奇亚;中村吉弘 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G03F7/20;G01B11/24 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 周全;何焜 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文所公开的方法包括在接近垂直的第一测量位置处和第二测量位置处记录光掩模表面的相应的第一干涉图和第二干涉图,并将差图定义为该第一干涉图和该第二干涉图之间的差。在该第一测量位置处和该第二测量位置处还测量了该光掩模上的相应的第一法向力和第二法向力。法向力的变化用于定义缩放因子,该缩放因子被应用于差图以定义经缩放的差图。通过从该第一干涉图中减去经缩放的差图来获取由重力引起的形状贡献得以减少的经补偿平坦度测量值。还公开了基于干涉仪的平坦度测量系统。 | ||
搜索关键词: | 具有 减少 重力 引起 误差 用于 测量 光掩模 平坦 系统 方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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