[发明专利]光学器件边缘密封剂的光泄露检测有效

专利信息
申请号: 201980047339.8 申请日: 2019-06-12
公开(公告)号: CN113330346B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 杨明;邢文栋;E·C·布洛伊;W·H·韦尔奇;T·默西埃 申请(专利权)人: 奇跃公司
主分类号: G02B21/36 分类号: G02B21/36;G02B13/22;G02B21/06;G03B17/00;G01M11/02
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 贺月娇;杨晓光
地址: 美国佛*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 描述了用于检查光学器件(例如目镜),以确定它们是否表现出通过被施加到器件的边缘密封剂的光泄露的技术。实施例提供了一种检查装置,该检查装置可用于检测通过光学器件的边缘密封剂的光的泄露,其中边缘密封剂被施加以防止或至少减少光学器件的光泄露。来自光源的光被投射到光学器件中。光可以沿着器件内的一个或多个波导传播,直到到达器件的边缘。能够通过边缘密封剂泄漏的光可以使用装置中的发射镜被反射,并由相机检测到。可以分析由相机捕获的图像以相对于边缘泄露确定光学器件的性能。
搜索关键词: 光学 器件 边缘 密封剂 泄露 检测
【主权项】:
暂无信息
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